尤其是在半导体技术领域,提升芯片均匀性已成为各大品牌研发的核心方向之一。朗姆研究公司近期获得的专利,无疑为晶片制造工艺带来了一场技术革新,其重要性不言而喻。此专利的主要目标是优化芯片在槽中的定位,以提高芯片边缘的方位角厚度均匀性 ...
在快速发展的科技领域,持续创新是企业生存与发展的命脉。最近,朗姆研究公司(RAM Research)成功取得了一项重要专利,内容涉及“用氮化铪层使氧化铪铁电性能改性”。这一突破将为氧化铪材料的应用打开全新机遇,成为业内热议的话题。 当前市场现象 近 ...