尤其是在半导体技术领域，提升芯片均匀性已成为各大品牌研发的核心方向之一。朗姆研究公司近期获得的专利，无疑为晶片制造工艺带来了一场技术革新，其重要性不言而喻。此专利的主要目标是优化芯片在槽中的定位，以提高芯片边缘的方位角厚度均匀性 ...

在快速发展的科技领域，持续创新是企业生存与发展的命脉。最近，朗姆研究公司（RAM Research）成功取得了一项重要专利，内容涉及“用氮化铪层使氧化铪铁电性能改性”。这一突破将为氧化铪材料的应用打开全新机遇，成为业内热议的话题。 当前市场现象 近 ...